特許
J-GLOBAL ID：200903049519344836
光触媒用酸化チタン含有膜被覆基体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
谷川 昌夫 (外1名)
, 谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-279087
公開番号（公開出願番号）：特開平8-134630
出願日： 1994年11月14日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：
【要約】【目的】 各種基体への密着性が良好で、汚れが付着し難い、光触媒用酸化チタン含有膜で被覆された基体及びその製造方法を提供する。【構成】 酸化チタン含有膜で被覆された基体Sであって、基体S上に、少なくとも表面部分が酸化チタン含有層S11となっており、表面が汚れ付着抑制平滑性を有するチタン含有膜S1が形成され、チタン含有膜S1と基体Sとの界面に両者の構成原子からなる混合層S2が形成されている光触媒用酸化チタン含有膜被覆基体及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
酸化チタン含有膜で被覆された基体であって、基体上に、少なくとも表面部分に酸化チタンを含有し、表面が汚れ付着抑制平滑性を有するチタン含有膜が形成され、該チタン含有膜と該基体との界面に該両者の構成原子からなる混合層が形成されていることを特徴とする光触媒用酸化チタン含有膜被覆基体。
IPC (5件)：
C23C 14/08
, B01J 21/06
, B01J 35/02
, B01J 37/02 301
, C23C 14/48
