特許

J-GLOBAL ID：200903049545181171

超微粒子成膜法

発明者： 明渡 純 ,  高木 秀樹
出願人/特許権者： 工業技術院長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-208998
公開番号（公開出願番号）：特開2001-247979
出願日： 1998年07月24日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】 超微粒子や基板に高速の高エネルギービームを照射することにより、超微粒子材料を溶融或いは分解することなく、上記超微粒子や基板の表面に付着した水分子等による汚染層や酸化物層を除去したりアモルファス化することで活性化し、超微粒子流が基板に低速度で衝突しても、低温状態で超微粒子と基板若しくは超微粒子相互の強固な接合を実現し、超微粒子の結晶性を保持して緻密で優れた物性と基板への良好な密着性を有する皮膜を形成するようにした。【解決手段】 減圧チャンバー20内において超微粒子を加速し基板1に衝突させて堆積するようにした超微粒子の成膜法であって、上記超微粒子や基板1に高速の高エネルギービームを照射することにより超微粒子や基板表面を溶融することなく活性化し、上記超微粒子と基板若しくは超微粒子相互の結合を促進させ、超微粒子の結晶性を保持したまま緻密で良好な膜物性と基板への良好な密着性を有する堆積物を形成するようにした。

請求項（抜粋）：

減圧チャンバー内において超微粒子材料を加速し基板に衝突させて堆積するようにした超微粒子の成膜法であって、上記超微粒子や基板に高速の高エネルギービームを照射することにより超微粒子や基板表面を溶融することなく活性化し、上記超微粒子と基板若しくは超微粒子相互の結合を促進させ、超微粒子の結晶性を保持したまま緻密で良好な膜物性と基板への良好な密着性を有する堆積物を形成するようにしたことを特徴とする超微粒子成膜法。

IPC (4件)：

C23C 24/04 ,  B01J 19/12 ,  C23C 14/22 ,  C23C 26/00

FI (4件)：

C23C 24/04 ,  B01J 19/12 G ,  C23C 14/22 F ,  C23C 26/00 E

Fターム (23件)：

4G075AA24 ,  4G075BA06 ,  4G075BA08 ,  4G075BB10 ,  4G075CA14 ,  4G075CA16 ,  4G075CA39 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075CA65 ,  4G075EB01 ,  4G075EB43 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075FC11 ,  4K029BC00 ,  4K029CA00 ,  4K029CA09 ,  4K044AA03 ,  4K044AA11 ,  4K044BA12 ,  4K044CA23 ,  4K044CA41

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-350175
  
• ガス・デポジション法による微粒子膜の形成法およびその形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-264915   出願人：真空冶金株式会社