特許
J-GLOBAL ID：200903049555310042
耐紫外線材料、紫外線照射装置および紫外線処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-119046
公開番号（公開出願番号）：特開平9-302326
出願日： 1996年05月14日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：
【要約】【課題】 波長200nm以下の紫外線が照射される環境下に配置されても、反応物の発生が極めて少ない耐紫外線材料、ランプ表面の汚染が防止されて長い使用寿命が得られる紫外線照射装置、および被処理体が汚染または損傷されることがなしに、被処理体の紫外線照射処理が達成される紫外線処理装置の提供。【解決手段】 耐紫外線材料はポリエーテルエーテルケトンよりなる。紫外線照射装置は、ランプ20が収納されるランプ収納室Rにおけるランプ20からの真空紫外線が照射される個所に、ポリエーテルエーテルケトンよりなる部材35が配置されている。紫外線処理装置は、ランプ収納室Rおよび/または紫外線処理室Tにおけるランプ20からの真空紫外線が照射される個所に、ポリエーテルエーテルケトンよりなる部材35,45が配置されている。
請求項（抜粋）：
ポリエーテルエーテルケトンよりなり、波長200nm以下の真空紫外線に対して非反応性であることを特徴とする耐紫外線材料。
IPC (4件)：
C09K 3/00 104
, C08G 65/40 NQV
, G21K 5/00
, H01J 65/04
C09K 3/00 104 Z
, C08G 65/40 NQV
, G21K 5/00 Z
, H01J 65/04 A
