特許
J-GLOBAL ID:200903049625852476
転写箔及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金山 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-263107
公開番号(公開出願番号):特開2004-098455
出願日: 2002年09月09日
公開日(公表日): 2004年04月02日
要約:
【課題】サーマルプリンタのサーマルヘッドによる転写でも、微細な面積のドットや、近接したドットを欠けず、かつバリの発生しない転写箔及びその製造方法を提供する。【解決手段】基材、レリーフ形成層の電離放射線硬化樹脂と実質的に同じ電離放射線硬化樹脂90〜99.9質量%と熱可塑性樹脂0.1〜10質量%からなる剥離層を設け、電離放射線硬化樹脂からなるレリーフ形成層、反射層が、順次積層されてなる転写箔、及び、(a)基材へ、レリーフ形成層の電離放射線硬化性樹脂と実質的に同じ電離放射線硬化性樹脂からなる剥離層を設ける工程、(b)該剥離層面へレリーフ形成層を設ける工程、(c)該レリーフ形成層へレリーフを賦形する工程、(d)実質的に300nm以下の波長を含まない紫外線を照射する工程、(e)反射層を設ける工程からなることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材、剥離層、レリーフ形成層、反射層が、順次積層されている転写箔において、前記レリーフ形成層が電離放射線硬化樹脂からなり、前記剥離層が前記レリーフ形成層の電離放射線硬化樹脂と実質的に同じ電離放射線硬化樹脂からなることを特徴とする転写箔。
IPC (5件):
B32B27/00
, B32B7/06
, B41M5/40
, G02B5/18
, G03H1/18
FI (5件):
B32B27/00 C
, B32B7/06
, G02B5/18
, G03H1/18
, B41M5/26 F
Fターム (44件):
2H049AA25
, 2H049AA40
, 2H111AA01
, 2H111AA05
, 2H111AA26
, 2H111AA33
, 2H111BA02
, 2H111BA03
, 2H111BA07
, 2H111BA12
, 2H111BA32
, 2H111BA53
, 2H111CA00
, 2H111DA04
, 2H111DA08
, 2K008AA13
, 2K008GG05
, 2K008HH18
, 4F100AB10
, 4F100AK15
, 4F100AK15B
, 4F100AK22
, 4F100AK41B
, 4F100AK42
, 4F100AL01
, 4F100AL05B
, 4F100AT00A
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10E
, 4F100EH66
, 4F100EJ39
, 4F100EJ52
, 4F100EJ54
, 4F100HB08C
, 4F100HB31
, 4F100JB14B
, 4F100JB14C
, 4F100JJ03E
, 4F100JL01
, 4F100JL11E
, 4F100JL12
, 4F100JL14B
, 4F100JN06D
引用特許:
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