浸炭方法及び浸炭装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-012434
公開番号（公開出願番号）：特開2002-212702
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】浸炭条件が通常とは異なる場合でも、通常の場合と同様の高品質の浸炭を再現性良く行うことが可能で、しかも経済的な浸炭方法及び浸炭装置を提供する。【解決手段】浸炭期の圧力が13〜4000Paで、一酸化炭素の割合が30vol%以下である雰囲気ガス中で浸炭を行う浸炭装置を、被処理品4を収納する浸炭室3と、浸炭期の浸炭室3内の雰囲気ガス中の酸素濃度を測定する酸素センサー20と、酸素センサー20による測定結果に応じて浸炭室3内の雰囲気ガスの組成を調整するマスフローコントローラ5と、を備える構成とした。

請求項（抜粋）：

13〜4000Paの圧力下、一酸化炭素の割合が30vol%以下である雰囲気ガス中で浸炭を行うに際して、浸炭時の前記雰囲気ガスの組成を分析し、その分析結果に応じて、温度,圧力,及び前記雰囲気ガスの組成のうち少なくとも一つを調整しながら浸炭を行うことを特徴とする浸炭方法。

IPC (3件)：

C23C 8/20 , C21D 1/06 , C21D 1/773

FI (3件)：

C23C 8/20 , C21D 1/06 A , C21D 1/773 J

Fターム (3件)：

4K028AA01 , 4K028AC07 , 4K028AC08

引用特許：

審査官引用 (5件)

真空浸炭処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-048636 出願人：株式会社不二越
雰囲気熱処理炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-294423 出願人：株式会社日本テクノ
特開昭53-015232

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