特許
J-GLOBAL ID:200903049685182658

試料分析装置の分析方式

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿部 龍吉 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-203681
公開番号(公開出願番号):特開2000-036275
出願日: 1998年07月17日
公開日(公表日): 2000年02月02日
要約:
【要約】【課題】 試料の分析位置の設定精度、操作性の向上を図る。【解決手段】 電子ビーム13を試料16に照射して走査画像を観察して分析位置を指定し分析を行う試料分析装置の分析方式であって、分析を行う際に電子ビームを分析位置に設定するEDSアナライザ21により電子ビーム13を走査して走査画像を観察することにより、走査画像上で分析位置が指定されたことを条件にEDSアナライザ21による電子ビーム13の制御を走査から指定された分析位置に設定して、測定を開始し分析を行う。
請求項(抜粋):
電子ビームを試料に照射して走査画像を観察して分析位置を指定し分析を行う試料分析装置の分析方式であって、分析を行う際に電子ビームを分析位置に設定する制御系により電子ビームを走査して走査画像を観察することにより、走査画像上で分析位置が指定されたことを条件に前記制御系による電子ビームの制御を走査から指定された分析位置に設定して、測定を開始し分析を行うことを特徴とする試料分析装置の分析方式。
IPC (2件):
H01J 37/22 502 ,  H01J 37/28
FI (2件):
H01J 37/22 502 A ,  H01J 37/28 B
Fターム (7件):
5C033FF03 ,  5C033JJ07 ,  5C033MM07 ,  5C033UU01 ,  5C033UU04 ,  5C033UU06 ,  5C033UU08
引用特許:
審査官引用 (2件)

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