特許

J-GLOBAL ID：200903049701787298

イオン源装置

発明者： オキーフ・パトリック ,  田 昭治 ,  林 雄造 ,  山川 晃司 ,  武藤 正信
出願人/特許権者： 入江工研株式会社
代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-112755
公開番号（公開出願番号）：特開平10-302659
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】 従来のイオン源装置のうち、カウフマン型イオン源は耐久性が悪く、活性ガスの使用が難しく、マイクロ波イオン源、高周波イオン源は低圧力での使用が困難であり、ECRイオン源では電磁石を用いるために全体形状が大型化していた。【解決手段】 本発明によるイオン源装置は、磁場を発生させるための永久磁石(11)を放電容器(1)の軸方向に移動できるようにし、マイクロ波の反射を低減させ、イオンエネルギーやラジカルとイオンの相対比率を制御し、低圧力で動作が可能なコンパクトな装置を得ることができる構成である。

請求項（抜粋）：

同軸ケーブル(5)により放電室(8)内の磁場中にマイクロ波を導入してプラズマを発生させるイオン源装置において、前記磁場を発生させるための永久磁石(11)を放電容器(1)の軸方向に移動できる構成としたことを特徴とするイオン源装置。

IPC (2件)：

H01J 27/18 ,  H01J 37/08

FI (2件)：

H01J 27/18 ,  H01J 37/08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-257747
  
• 特開平2-162639
  
• プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-004127   出願人：入江工研株式会社