ガス化触媒とその製造方法およびガス化処理システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：鈴木崇生 , 梶崎弘一 , 尾崎雄三 , 谷口俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-094954
公開番号（公開出願番号）：特開2006-068723
出願日： 2005年03月29日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

【課題】高価な貴金属系の触媒を使用することなく、炉内を1000°C以下の低温で操業してもガス化成分中のタール成分などを効果的に抑制可能なガス化触媒とその製造方法およびガス化処理システムを提供する。【解決手段】ドロマイト類とニッケル塩との複合体を有する。この複合体が炭酸化されていると共にニッケル5〜30wt%を含み、ドロマイト類とニッケルの複合体の表面にニッケル成分が高分散されているガス化触媒。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ドロマイト類とニッケル塩との複合体を有するガス化触媒であって、前記複合体が炭酸化されていると共にニッケル5〜30wt%を含み、前記ドロマイト類とニッケルの複合体の表面にニッケル成分が高分散されているガス化触媒。

IPC (3件)：

B01J 27/232 , C10J 3/00 , C10J 3/54

FI (3件)：

B01J27/232 M , C10J3/00 A , C10J3/54 A

Fターム (36件)：

4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA16A , 4G169BA16B , 4G169BB01C , 4G169BB12C , 4G169BB16A , 4G169BB16B , 4G169BB16C , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC59C , 4G169BC60A , 4G169BC60B , 4G169BC60C , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BC67C , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BC68C , 4G169BD01C , 4G169BD02C , 4G169BD04C , 4G169BD06C , 4G169CC19 , 4G169ED07 , 4G169ED08 , 4G169FB06 , 4G169FB30 , 4G169FB78 , 4G169FB80 , 4G169FC02 , 4G169FC04 , 4G169FC07 , 4G169FC08

引用特許：

出願人引用 (1件)

バイオマスのガス化方法、およびそれに用いられる触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-366823 出願人：東北大学長

審査官引用 (1件)

特公昭57-051880

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