特許

J-GLOBAL ID：200903049708560019

基板処理装置および不活性ガス濃度制御方法

発明者： 柴山 宣之
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-171263
公開番号（公開出願番号）：特開2004-022572
出願日： 2002年06月12日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：

【課題】窒素ガス濃度を安定させて純水を供給できる基板処理装置を提供する。【解決手段】純水供給経路3を分岐し、一方では溶解部4において純水に窒素ガスを溶解させた高濃度純水を、他方では脱気部5において純水から窒素ガスを脱気した低濃度純水を生成する。それぞれの窒素ガス濃度C1、C2を逐次測定し、目標窒素ガス濃度をC、総純水流量をVに対しC1・X1+C2・X2=C・VおよびX1+X2=Vを満たすように、第1純水バルブ19および第2純水バルブ22の開閉を調整してそれぞれの流量X1、X2を制御しつつ両者を混合することにより、目標濃度Cを有する純水を安定して供給することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

処理液により基板に所定の処理を行う処理部と、 不活性ガス濃度の異なる第1および第2処理液を混合して前記処理部へ供給する処理液供給手段と、備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/304

FI (2件)：

H01L21/304 648K ,  H01L21/304 647Z

Fターム (5件)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB93 ,  3B201BB99

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 超小型電子回路基板の改良された洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-015406   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション, シーメンス・アクチエンゲゼルシャフト