特許
J-GLOBAL ID:200903049709041279

皮膜形成用組成物および皮膜形成法および皮膜加工法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 永井 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-200161
公開番号(公開出願番号):特開2006-022173
出願日: 2004年07月07日
公開日(公表日): 2006年01月26日
要約:
【課題】シリコン、金属、ガラス、セラミックスおよびプラスチックなどの各種基材を被覆し、耐熱性、被覆性、平坦性、密着性、可とう性、耐久性、応力緩衝性、透明性、アルファ線遮蔽性、耐薬品性、耐候性および電気絶縁性や誘電特性に優れた皮膜を形成することができる皮膜形成用組成物、及びそれを用いた皮膜形成方法および皮膜の加工方法を提供する。 【解決手段】特定の脂環族テトラカルボン酸構造を有するポリイミドを含有する有機溶剤溶液からなる皮膜形成用組成物、および該皮膜形成用組成物を塗布した上で溶剤を蒸発除去させる事により該ポリイミドの皮膜を形成することを特徴とする皮膜形成法、および非プロトン性極性有機溶剤をエッチャントとしてウェットエッチング法を用いて不要部分のポリイミド皮膜を除去することを特徴とする皮膜加工法。 【選択図】 無
請求項(抜粋):
一般式(I):
IPC (7件):
C08L 79/08 ,  C08G 73/10 ,  C08K 5/00 ,  C09D 5/25 ,  C09D 179/08 ,  H01L 21/312 ,  H01L 23/14
FI (7件):
C08L79/08 Z ,  C08G73/10 ,  C08K5/00 ,  C09D5/25 ,  C09D179/08 Z ,  H01L21/312 B ,  H01L23/14 R
Fターム (86件):
4J002CH052 ,  4J002CM041 ,  4J002CP182 ,  4J002EJ026 ,  4J002EJ056 ,  4J002EL106 ,  4J002FD312 ,  4J002GH01 ,  4J002GH02 ,  4J002GQ01 ,  4J002HA01 ,  4J038DJ021 ,  4J038JA11 ,  4J038JA64 ,  4J038JC30 ,  4J038KA06 ,  4J038KA09 ,  4J038NA01 ,  4J038NA03 ,  4J038NA04 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA14 ,  4J038NA21 ,  4J038PA18 ,  4J038PB09 ,  4J043PA02 ,  4J043QB15 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SB01 ,  4J043SB02 ,  4J043TA22 ,  4J043TB01 ,  4J043TB02 ,  4J043UA032 ,  4J043UA041 ,  4J043UA042 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA261 ,  4J043UA632 ,  4J043UA662 ,  4J043UA672 ,  4J043UA761 ,  4J043UA762 ,  4J043UB011 ,  4J043UB021 ,  4J043UB062 ,  4J043UB121 ,  4J043UB131 ,  4J043UB132 ,  4J043UB141 ,  4J043UB151 ,  4J043UB281 ,  4J043UB301 ,  4J043UB402 ,  4J043VA011 ,  4J043VA012 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA041 ,  4J043VA051 ,  4J043VA062 ,  4J043VA081 ,  4J043VA082 ,  4J043VA102 ,  4J043WA05 ,  4J043WA16 ,  4J043ZB03 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB25 ,  4J043ZB47 ,  5F058AA10 ,  5F058AC02 ,  5F058AD04 ,  5F058AF04 ,  5F058AF06 ,  5F058AG01 ,  5F058AH01 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開平1-278561号公報
  • 特開昭61-151237号公報
審査官引用 (7件)
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