走査式描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松岡修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-130590
公開番号（公開出願番号）：特開2001-311889
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】ビームの走査方向を主走査方向に対して所定の方向に傾斜させることのできる走査式描画装置を提供することを目的とする。【解決手段】ビームの現在位置を検出する位置検出手段と、光源からポリゴンミラーに至る光路上に設けられ描画面上においてビームを副走査方向に偏向させる光偏向器と、検出手段からの位置情報に基づいて偏向手段を制御することにより、ビームの1走査によって描かれる走査線を主走査方向に対して所定の方向に傾斜させる制御手段を備えて描画装置を構成する。ピエゾ素子よりなる光偏向器の応答特性を利用することで、光偏向器に対する制御信号を、ビームの走査範囲を複数の小区間に分割した場合の小区間毎に階段状に変化する信号とした場合であっても、ビームの1走査によって描かれる走査線の直線性が維持される。

請求項（抜粋）：

描画データに基づいて変調したビームで描画面上を走査するとともに描画テーブル移動させて感光材に対する描画を行う走査式描画装置であって、ビームを副走査方向に偏向させる偏向手段と、ビームの1走査によって描画面上に描かれる走査線の方向が所定の方向となるように前記偏向手段を制御する制御手段とを備えること、を特徴とする走査式描画装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44 , H04N 1/113

FI (3件)：

G02B 26/10 A , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 A

Fターム (25件)：

2C362BA04 , 2C362BA14 , 2C362BA83 , 2C362BB08 , 2C362BB28 , 2C362BB30 , 2C362BB32 , 2C362BB34 , 2C362BB40 , 2C362BB46 , 2C362BB48 , 2C362CB02 , 2C362CB12 , 2H045AA01 , 2H045BA02 , 2H045CA95 , 2H045CB52 , 2H045DA02 , 5C072AA03 , 5C072HA02 , 5C072HA13 , 5C072HA16 , 5C072HB08 , 5C072HB15 , 5C072UA11

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-271312
特開平1-180509
特開平2-047621

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