特許
J-GLOBAL ID：200903049811364473
感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-055176
公開番号（公開出願番号）：特開2004-264623
出願日： 2003年03月03日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】高い感度を有し、保存安定性が良く、良好な現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。また、上記の感放射線性樹脂組成物より形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法を提供すること。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)アセタール構造および/またはケタール構造、ならびにエポキシ構造を有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が2000以上である高分子量体、ならびに(B)放射線の照射によりpKaが4.0以下の酸を発生する化合物を含有する。層間絶縁膜およびマイクロレンズは上記感放射線性樹脂組成物より形成される。【選択図】 なし。
請求項（抜粋）：
(A)アセタール構造および/またはケタール構造、ならびにエポキシ構造を有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が2000以上である高分子量体、ならびに(B)放射線の照射によりpKaが4.0以下の酸を発生する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F7/038
, G02B1/04
, G03F7/004
G03F7/038 503
, G02B1/04
, G03F7/004 503Z
2H025AA13
, 2H025AB14
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BD23
, 2H025BE00
, 2H025BE01
, 2H025FA29
