特許
J-GLOBAL ID：200903049888667975
基板処理装置および基板処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-195956
公開番号（公開出願番号）：特開2006-019523
出願日： 2004年07月01日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】基板表面から良好にリンス液を排除することにより、基板表面における筋状のパーティクルの発生を抑制または防止する。 【解決手段】この基板処理装置は、基板Wを保持して回転するスピンチャック1上の基板Wを角度θだけ傾斜させる基板傾斜機構25とを備えている。基板W上に純水を供給して純水液塊45を形成した後、基板傾斜機構25で、基板Wを微小角度θだけ傾斜させる。すると、純水液塊45は、分裂することなく、下方へと向かい、基板Wの上面に微小液滴を残すことなく落下する。その後、基板Wを水平姿勢に戻し、スピンチャック1を高速回転して、基板Wの周端面の微小液滴を振り切る。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
一方表面を上方に向けた姿勢で基板を保持し、この基板を回転させることができる基板保持回転機構と、
この基板保持回転機構に保持されている基板の前記一方表面にリンス液を供給するリンス液供給機構と、
前記基板保持回転機構に保持されている基板を、前記一方表面が水平面に沿う水平姿勢から、前記一方表面が水平面に対して所定角度だけ傾斜した傾斜姿勢へと傾斜させる基板傾斜機構とを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/304 651B
, H01L21/304 645A
出願人引用 (1件)
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基板処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-197541
出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (1件)
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