特許
J-GLOBAL ID：200903049901782622

光触媒反応装置

発明者：
織方 郁映

織方 郁映 について

, 
浦上 逸男

浦上 逸男 について


出願人/特許権者：
千代田工販株式会社

千代田工販株式会社 について


代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126427
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328351
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 光の照射により励起されて還元と酸化活性を有する電子と正孔を生成する半導体からなる光触媒を用いて流体に含まれる有害物質を分解して無害化することができる光触媒反応装置を提供する。【構成】 紫外線から可視光線までのいずれかの波長を有する光線を放射する棒状の紫外線灯2を内装する光透過性材料からなる保護管7と、この保護管7の複数本を互いに平行に配置して両端支持する枠体3とを有する光源ユニット1と、表面に光触媒が固着された触媒網11と、この触媒網11の周囲を固定する枠体13とを有する触媒フィルタユニット10とを備え、被処理流体が通過する回路内に、光源ユニット1及び触媒フィルタユニット10を配置する。
請求項（抜粋）：
紫外線から可視光線までのいずれかの波長を有する光線を放射する棒状の光源を内装する光透過性材料からなる保護管と、上記保護管の複数本を互いに平行に配置して両端又は片端支持する枠体とを有する光源ユニットと、表面に光触媒が固着された触媒網と、上記触媒網の周囲を固定する枠体とを有する触媒フィルタユニットとを備え、被処理流体が通過する回路内に、上記光源ユニット及び上記触媒フィルタユニットを配置したことを特徴とする光触媒反応装置。
IPC (4件)：
B01D 35/28 ,  B01J 19/12 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32
引用特許：
審査官引用 (3件)

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