特許

J-GLOBAL ID：200903049920875259

光学材料用重合組成物

発明者： 内田 博 ,  田中 保二
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-239255
公開番号（公開出願番号）：特開平7-070260
出願日： 1993年09月01日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】【目的】 従来のジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)を用いる場合に比較して、体積収縮率が低く、硬化時に歪が入りにくいばかりでなく、耐衝撃性の高い透明な硬化物が得られるので、眼鏡レンズに限らず、プリズム、光ディスク等の光学的な性質を重視する分野に使用できる光学材料用重合組成物を開発する。【構成】 末端にアリルエステル基を有し、内部がシクロヘキサンおよび/またはシクロヘキセン骨格を有するジカルボン酸と多価飽和アルコールから誘導されたアリルエステルオリゴマー(a)と、必要に応じてシクロヘキサンジカルボン酸ジアリルモノマー類(b)を用い、さらにアクリル酸アルキルおよび/またはメタクリル酸アルキル(c)とから成る光学材料用重合組成物により上記目的を達成することができる

請求項（抜粋）：

以下の(a)〜(c)の化合物から本質的になることを特徴とする光学材料用重合組成物。(a)末端にアリルエステル基を有し、内部が多価カルボン酸と多価飽和アルコールから誘導された下記構造を有するオリゴマー 20〜80重量%CH2=CHCH2-O-(COACOO)X-Z-O-COACOO-CH2CH=CH2ただし、Aは構造式-1〜6(化1)で表される多価カルボン酸から誘導された有機残基であり、Xは1以上10以下の整数であり、ZはX+1個の水酸基を有する炭素数2〜30の多価飽和アルコールから誘導された有機残基を表す。【化1】(b)1,2-シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジアリル、4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジアリル、メチル-4-シクロヘキセン-1,2-ジカルボン酸ジアリル、エンディック酸ジアリル、[2,2,1]ビシクロヘプタン-1,2-ジカルボン酸ジアリルから選択される少なくとも一つのモノマー 0〜50重量%(c)アクリル酸アルキルおよび/またはメタクリル酸アルキル 5〜40重量%

IPC (4件)：

C08F283/01 MRT ,  C08F220/26 MMK ,  G02B 1/04 ,  G02C 7/02

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 光学材料用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-248921   出願人：昭和電工株式会社
• 特開平1-201316
  
• 特開昭63-122714
  
• 特開昭63-221118