特許

J-GLOBAL ID：200903049945015556

微細加工方法及びその装置

発明者： 前坂 明弘 ,  橋本 俊一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-107483
公開番号（公開出願番号）：特開平6-297252
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】【構成】 走査トンネル顕微鏡(STM)を使用し、その探針を被加工物表面に接近させ、探針と被加工物表面とを液体中に浸した状態で、該探針と該被加工物との間に電圧を印加することにより該被加工物表面に微細加工を施す方法と、その装置。【効果】 化学的に安定で真空装置が不要な条件下で被加工物表面にnm〜μmオーダーの微細な凸部や凹部を形成することができる。

請求項（抜粋）：

走査トンネル顕微鏡の探針を用い、液体中で前記探針と被加工物との間に加工電圧を印加して、前記被加工物に微細加工を施す微細加工方法。

IPC (5件)：

B23H 9/00 ,  B23H 9/08 ,  C25F 7/00 ,  G11B 9/00 ,  H01L 21/306

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-139827
  
• 情報記憶装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-176794   出願人：キヤノン株式会社
• 超微細加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-281518   出願人：セイコー電子工業株式会社