特許

J-GLOBAL ID：200903049962963026

処理液供給装置

発明者： 青木 泰一郎 ,  中村 彰彦 ,  寺本 和馬 ,  河田 茂 ,  川上 和志 ,  今井 俊典
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社 ,  タツモ株式会社
代理人 (1件)： 小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-351228
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173905
出願日： 1998年12月10日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】 処理液をワーク全体に短時間のうちに広げる。【解決手段】 ストレージタンク7の現像液室72内には定量の現像液供給し貯留させる。その状態にて、ノズル76を開いて現像液を滴下させ、ウェハ5上にディスペンスする。

請求項（抜粋）：

板状被処理物を保持するスピンドルチャックの上方に処理液を貯留するストレージタンクが配置され、前記ストレージタンクにはその下面に開けられた開口と、この開口を開閉する栓とから成るノズルが設けられ、前記ノズルは栓が開口に対して昇降動により開口を開き、タンク内に貯留された処理液を栓の外周と開口内周との間を通って板状被処理物上に流出させるものであり、前記栓の中心部に処理液を供給するための供給管を貫通させていることを特徴とする処理液供給装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/30 502

Fターム (9件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA02 ,  2H096GA17 ,  2H096GA29 ,  2H096GA30 ,  2H096GA31 ,  2H096HA20 ,  5F046LA04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭57-027167
  
• 特開昭63-100970
  
• 処理液供給ノズルシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-243029   出願人：タツモ株式会社