特許
J-GLOBAL ID：200903049991654377
装置に対して可動な基板への流動性物質塗布装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (11件)：
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 藤野 育男
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 高梨 憲通
, 朝日 伸光
, 高橋 誠一郎
, 吉澤 弘司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-520480
公開番号（公開出願番号）：特表2004-538140
出願日： 2002年08月05日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
本発明は、装置に対して移動可能である基板へ易流動性物質を塗布する装置のための方法および装置に関し、かかる装置は、易流動性物質のための流路(19)が形成されているベース(6)と、流路(19)の中に可動に配置された弁体(14)を備えたバルブ装置(17)とを備えている。駆動手段(15)が弁体(14)と協働して、開位置と閉位置との間にて弁体を動かす。流路内にはシリンダチャンバ(52)が提供されていて、弁体(14)は、シリンダチャンバ(52)の内側にて可動であるようなピストン部分(56)を有している。ピストン部分(56)はシリンダチャンバ(52)の内部にシールされて、ピストン部分(56)がシリンダチャンバの内側へ動いたときには、易流動性物質は押し退けられおよび/または吸い上げられる。
請求項（抜粋）：
装置に対して移動可能である基板へ易流動性物質を塗布するための塗布装置であって、
易流動性物質のための流路(19)が形成されているベース(6)と、
流路(19)の中に可動に配置された弁体(14)を有するバルブ装置(17)であって、該弁体は、該流路(19)へ物質の流れを放出するために該流路(19)を開放する開位置へと下流側に移動可能であって、流路への物質の流れを遮断すべく該流路を閉鎖する閉位置へと上流側に移動可能な前記バルブ装置と、
弁体(14)と協働して、該開位置と該閉位置との間にて弁体(14)を動かす駆動手段(15)と、
該流路内に配置されるシリンダチャンバ(52)とを備え、
該弁体(14)は、シリンダチャンバ(52)の内側にて可動であるようなピストン部分(56)を有し、
該ピストン部分(56)は、該ピストン部分(56)がシリンダチャンバ内にて移動した際に、易流動性物質は押し退けられ、および/または吸い上げられるように、シリンダチャンバ(52)の内部にシールされていることを特徴とする塗布装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4F041AA02
, 4F041AA12
, 4F041BA35
, 4F041BA60
, 4F041CA02
, 4F041CA17
, 4F041CA28
, 4F042AA02
, 4F042AA22
, 4F042AB01
, 4F042BA12
, 4F042CB08
, 4F042CB11
, 4F042CC03
, 4F042CC08
