特許

J-GLOBAL ID：200903050069264924

超純水製造装置

発明者： 田辺 円
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-235887
公開番号（公開出願番号）：特開平10-057956
出願日： 1996年08月19日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】【課題】 溶存酸素濃度が極めて低く、かつ、溶存窒素を含む全溶存ガス濃度も大きく低減した超純水を得ることが可能な超純水製造装置を提供する。【解決手段】 一次純水系システム8と二次純水系システム10とを備えた超純水製造装置において、二次純水系システム10に、紫外線酸化装置26、非再生型イオン交換装置40及び膜脱気装置50をこの順序に通水するように設置する。あるいは、膜脱気装置50の後段にさらに第2の非再生型イオン交換装置を設置する。

請求項（抜粋）：

一次純水系システムと二次純水系システムとを備えた超純水製造装置において、二次純水系システムに、紫外線酸化装置、非再生型イオン交換装置及び膜脱気装置をこの順序に通水するように設置したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (5件)：

C02F 1/42 ,  B01D 19/00 ,  B01J 47/04 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/32

FI (5件)：

C02F 1/42 A ,  B01D 19/00 H ,  B01J 47/04 B ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/32

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 超純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-020039   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社
• 超純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-180018   出願人：栗田工業株式会社
• 特開平4-090890