特許
J-GLOBAL ID：200903050126762030
光学素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-167133
公開番号（公開出願番号）：特開2001-350163
出願日： 2000年06月05日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 膨潤時の発色特性あるいは光散乱特性に優れ、良好なコントラスト比が得られる光学素子及びその製造方法の提供。【解決手段】 少なくとも、一対の基板2,4と、刺激応答性高分子ゲル6と、該刺激応答性高分子ゲル6中に吸収可能な液体8とからなり、発色時あるいは光散乱時において、調光に寄与する基板2の有効面積に対する、該基板2上に一粒子層として固定化された総ての刺激応答性高分子ゲル6の該基板2上への正射影の面積の割合が、70%以上であることを特徴とする光学素子である。また、少なくとも、基板上に、刺激応答性高分子ゲルを固定化する工程と、該刺激応答性高分子ゲル中に吸収可能な液体を基板間に充填する工程とを有する光学素子の製造方法において、該刺激応答性高分子ゲルを発色時あるいは光散乱時の膨潤量よりも小さい膨潤量で前記基板上に固定化することを特徴とする光学素子の製造方法である。
請求項（抜粋）：
少なくとも、一対の基板と、刺激応答性高分子ゲルと、該刺激応答性高分子ゲル中に吸収可能な液体とからなり、発色時あるいは光散乱時において、調光に寄与する基板の有効面積に対する、該基板上に一粒子層として固定化された総ての刺激応答性高分子ゲルの該基板上への正射影の面積の割合が、70%以上であることを特徴とする光学素子。
IPC (6件)：
G02F 1/17
, C09K 3/00
, G02B 1/04
, G02B 1/06
, G02B 5/00
, G02B 5/02
G02F 1/17
, C09K 3/00 E
, G02B 1/04
, G02B 1/06
, G02B 5/00 A
, G02B 5/02 B
2H042AA15
, 2H042AA26
, 2H042BA02
, 2H042BA11
, 2H042BA13
, 2H042BA15
, 2H042BA20
