特許

J-GLOBAL ID：200903050131925800

CMP排水の処理装置

発明者： 老沼 正芳 ,  大谷 高広 ,  和田 雄一郎
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304372
公開番号（公開出願番号）：特開2001-121144
出願日： 1999年10月26日
公開日（公表日）： 2001年05月08日
要約：

【要約】【課題】 研磨粒子や研磨屑などのSS及びH2O2と、更には有機成分をも含むCMP排水を効率的に処理することができ、長期連続運転が可能なCMP排水の処理装置を提供する。【解決手段】 セラミックフィルタ2でSSを分離除去した後、H2O2を活性炭塔3で分解除去する。H2O2の殺菌作用で膜面でのスライムの付着、成長が防止され、膜フラックスを高く維持できる。SSやH2O2による膜劣化の問題もなく、また活性炭塔3では有機成分も吸着除去できる。

請求項（抜粋）：

過酸化水素を含むCMP排水の処理装置において、該CMP排水中の懸濁物質を分離する無機膜分離装置と、該膜分離装置の透過水を粒状活性炭と接触させる活性炭塔とを有することを特徴とするCMP排水の処理装置。

IPC (4件)：

C02F 1/44 ,  B01D 65/02 500 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/58

FI (4件)：

C02F 1/44 E ,  B01D 65/02 500 ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/58 H

Fターム (45件)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006KA71 ,  4D006KB12 ,  4D006KD19 ,  4D006KE02P ,  4D006KE05P ,  4D006KE12P ,  4D006KE13P ,  4D006MB11 ,  4D006MB16 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03X ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB20 ,  4D006PB23 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  4D024AA04 ,  4D024AB04 ,  4D024AB14 ,  4D024AB15 ,  4D024BA02 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024CA02 ,  4D024DA03 ,  4D024DA05 ,  4D024DB05 ,  4D038AA08 ,  4D038AB08 ,  4D038AB26 ,  4D038AB57 ,  4D038AB58 ,  4D038AB60 ,  4D038AB77 ,  4D038BA01 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB06 ,  4D038BB09

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 研磨剤の回収方法及び研磨剤の回収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-197609   出願人：オルガノ株式会社
• コロイダルシリカ含有廃水からの水回収方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-041170   出願人：日本碍子株式会社, エヌジーケイ・フィルテック株式会社
• 粒状活性炭充填塔による過酸化水素の除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-344772   出願人：オルガノ株式会社
• オゾン耐性膜による水処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-132941   出願人：旭化成工業株式会社