特許
J-GLOBAL ID：200903050146558464
ライン式レーザマーカ装置、その光学装置及びその刻印方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
橋爪 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-353463
公開番号（公開出願番号）：特開平10-175084
出願日： 1996年12月17日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】【課題】 刻印速度及び装置サイズ等の装置性能を損なわずに、ラインの刻印深さを均一にできるライン式レーザマーカ装置、その光学装置及びその刻印方法を提供する。【解決手段】 レーザ発振器1から出射されたレーザ光を、パターンが描かれたマスク面上を一方向に走査させ、前記マスクから透過されたレーザ光をワークに照射して前記パターンを刻印するライン式レーザマーカ装置の刻印方法において、レーザ発振器1から出射された前記レーザ光を、前記走査方向に対して略直交する方向に振動的に偏向させると共に、前記マスク面上を走査させる。あるいは、前記レーザ光を、前記マスク面内で回転偏向させると共に、このマスク面上を走査させるようにする。
請求項（抜粋）：
レーザ発振器(1) から出射されたレーザ光を走査器に入射し、この走査器によって前記レーザ光を、ワークに刻印するパターンが描かれたマスクの面上に一方向に走査して照射し、前記マスクから透過されたレーザ光をワークの所定刻印位置に照射して前記パターンを刻印するライン式レーザマーカ装置において、前記レーザ発振器(1) と前記走査器との間に配設され、かつ、レーザ発振器(1) から入射した前記レーザ光を前記走査方向に対して略直交する方向に振動的に偏向する光学装置(10)を備えたことを特徴とするライン式レーザマーカ装置。
IPC (3件)：
B23K 26/00
, B23K 26/06
, B41J 2/44
B23K 26/00 B
, B23K 26/06 J
, B23K 26/06 G
, B41J 3/00 D
