特許
J-GLOBAL ID：200903050149688733
排気ガス希釈サンプリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川井 治男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-023772
公開番号（公開出願番号）：特開平11-211631
出願日： 1998年01月21日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】排気ガスのサンプリング量を少なくして、希釈空気の量をできるだけ少なくし、しかもCVS装置と同様に希釈排気ガスの中の汚染成分の濃度を全排気ガス流量の中の量に比例するようにすること【解決手段】エンジンの排気ガスを露点以上の温度において一定の質量流量で連続的に抽出し、これにN2 または純空気を混合して希釈する時に、全排気ガス流量に比例した希釈排気ガス流量になるようにN2 または純空気の流量を制御して、希釈排気ガス3の中のある特定成分の濃度が全排気ガス流量の中のある特定成分の排出量に比例するよう構成し、さらにその希釈排気ガスを一定流量でサンプリングすると、そのサンプリング時間内の排出量に比例したある特定成分の濃度が得られるように構成した排気ガス希釈サンプリング装置100
請求項（抜粋）：
エンジンの排気ガスを露点以上の温度において一定の質量流量で連続的に抽出し、これにN2 または純空気を混合して希釈する時に、全排気ガス流量に比例した希釈排気ガス流量になるようにN2 または純空気の流量を制御して、希釈排気ガスの中のある特定成分の濃度が全排気ガス流量の中のある特定成分の排出量に比例するようにした排気ガス希釈サンブリング装置であって、さらにその希釈排気ガスを一定流量でサンプリングすると、そのサンプリング時間内の排出量に比例したある特定成分の濃度が得られる排気ガス希釈サンプリング装置。
FI (2件)：
G01N 1/22 M
, G01N 1/22 G
