特許
J-GLOBAL ID:200903050218742800
シャドーマスクおよびその製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-148031
公開番号(公開出願番号):特開平10-330911
出願日: 1997年06月05日
公開日(公表日): 1998年12月15日
要約:
【要約】【課題】マスク法によって薄膜の微細なパターン加工を実現するためのシャドーマスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】シート状物質に少なくとも1つ以上の開口部が存在するシャドーマスクであって、マスク部分の間に前記開口部を横切るようにして前記マスク部分の厚さよりも薄く、かつ、前記マスク部分と一体化した補強線が形成され、前記マスク部分の少なくとも一方の面と前記補強線との間に隙間が存在することを特徴とするシャドーマスク、および、前記のシャドーマスクの製造方法であって、シート状物質の片面にはマスク部分のパターンに対応したレジストを、他方の面には前記マスク部分に補強線を加えたパターンに対応するレジストを形成し、前記シート状物質を両面からエッチングすることを特徴としたシャドーマスクの製造方法である。
請求項(抜粋):
シート状物質に少なくとも1つ以上の開口部が存在するシャドーマスクであって、マスク部分の間に前記開口部を横切るようにして前記マスク部分の厚さよりも薄く、かつ、前記マスク部分と一体化した補強線が形成され、前記マスク部分の少なくとも一方の面と前記補強線との間に隙間が存在することを特徴とするシャドーマスク。
IPC (5件):
C23C 14/04
, C23F 4/00
, G09F 9/00 339
, H01L 21/027
, C23C 16/04
FI (5件):
C23C 14/04 A
, C23F 4/00 Z
, G09F 9/00 339 Z
, C23C 16/04
, H01L 21/30 502 P
引用特許:
審査官引用 (15件)
-
特開昭62-202491
-
特開昭62-035498
-
特開平2-094425
-
特開平1-249346
-
電子部品の電極を形成する方法およびそれに用いる装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-276552
出願人:株式会社村田製作所
-
特開昭64-013152
-
特開平2-002119
-
特開昭53-075858
-
特開昭62-202491
-
特開昭62-035498
-
特開平2-094425
-
特開平1-249346
-
特開昭64-013152
-
特開平2-002119
-
特開昭53-075858
全件表示
前のページに戻る