特許
J-GLOBAL ID:200903050278625594

無電解スズメッキ浴

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 豊永 博隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-331592
公開番号(公開出願番号):特開2004-162148
出願日: 2002年11月15日
公開日(公表日): 2004年06月10日
要約:
【課題】無電解スズメッキ浴より得られるスズ皮膜に異常粒子や過剰析出が発生するのを有効に防止する。【解決手段】可溶性第一スズ塩と有機スルホン酸とチオ尿素類を含有する無電解スズメッキ浴において、上記有機スルホン酸として、アルカノールスルホン酸のアニオン部分を含み、且つ、アルカンスルホン酸のアニオン部分を含有せず、さらに、上記アルカノールスルホン酸と共にカルボン酸を含有する無電解スズメッキ浴である。アルカノールスルホン酸ではC1〜C5アルカノールスルホン酸が、カルボン酸では脂肪族オキシカルボン酸、脂肪族ポリカルボン酸が好ましい。アルカンスルホン酸が存在せず、アルカノールスルホン酸とカルボン酸が共存するため、スズ皮膜の析出異常を有効に防止できる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
可溶性第一スズ塩と有機スルホン酸とチオ尿素類を含有する無電解スズメッキ浴において、 上記有機スルホン酸として、アルカノールスルホン酸のアニオン部分を含み、且つ、アルカンスルホン酸のアニオン部分を含有せず、 さらに、上記アルカノールスルホン酸とともに、カルボン酸を含有することを特徴とする無電解スズメッキ浴。
IPC (2件):
C23C2/20 ,  C23C2/24
FI (2件):
C23C2/20 ,  C23C2/24
Fターム (13件):
4K027AA02 ,  4K027AA05 ,  4K027AC52 ,  4K027AC56 ,  4K027AC59 ,  4K027AD16 ,  4K027AD17 ,  4K027AD21 ,  4K027AD29 ,  4K027AE15 ,  4K027AE17 ,  4K027AE18 ,  4K027AE24
引用特許:
審査官引用 (5件)
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