特許
J-GLOBAL ID:200903050355248529

ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-117020
公開番号(公開出願番号):特開平11-070320
出願日: 1998年04月27日
公開日(公表日): 1999年03月16日
要約:
【要約】【課題】 排ガス中のダイオキシンをきわめて効率良く除去することができるダイオキシン除去方法及び装置を提供する。【解決手段】 排ガスは乾式集塵機1で粉塵が除去された後、前段液接触室2でポンプ3による水と接触してダイオキシンが吸収される。洗浄塔4内では、並列に2個の液接触室6,6′が設けられ、活性炭分散水8,8′を循環させるように循環ライン5C、5′Cが接続されている。循環ライン5′Cには水冷却器15が設けられており、循環水が冷却される。このため、液接触室6′を通過したガスは液接触室6を通過したガスよりも低温となる。液接触室6、6′を通過したガスは水蒸気で飽和しているので、液接触室6,6′を通過したガスを混合室12で混合することにより大量の白煙が発生する。これにより、ガス中の粒子が成長し、集塵機13で確実に除去される。
請求項(抜粋):
ダイオキシン含有ガスを、ダイオキシン吸着材を含み、かつ乾きガスの重量比で7倍以上の量の水と接触させて急冷した後、45°C以下の温度の水で洗浄するダイオキシン含有ガスの処理方法。
IPC (11件):
B01D 53/70 ,  B01D 53/77 ,  B01D 51/10 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01J 20/20 ,  F23J 15/00 ,  F23J 15/06 ,  F23J 15/04 ,  F27D 17/00 104 ,  F27D 17/00 ,  F27D 17/00 105
FI (10件):
B01D 53/34 134 F ,  B01D 51/10 A ,  B01J 20/20 Z ,  F27D 17/00 104 D ,  F27D 17/00 104 G ,  F27D 17/00 105 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  F23J 15/00 J ,  F23J 15/00 K ,  F23J 15/00 D
引用特許:
審査官引用 (3件)

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