特許
J-GLOBAL ID:200903050398324806

寸法測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木内 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-269084
公開番号(公開出願番号):特開平9-089528
出願日: 1995年09月22日
公開日(公表日): 1997年04月04日
要約:
【要約】【課題】 誤サーチを防ぎ、測定精度を向上させることができる寸法測定装置を提供することである。【解決手段】 基板1上に設けられた複数のパターン層のうち上層のパターンP1 と下層のパターンP2 とを含む画像データを入力し、その画像データからパターンP1 とパターンP2 とのいずれか一方を分離し、基準パターン画像データとして登録し、基板1上を順次撮像して得られた画像データから、前記基準パターン画像データと一致するパターンを画像サーチし、上層のパターンP1 と下層のパターンP2 とのずれ量を測定する。
請求項(抜粋):
基板上に設けられた複数のパターン層のうち第1のパターン層の第1パターンと第2のパターン層の第2パターンとのずれ量を測定する寸法測定装置において、前記基板上の前記第1パターンと前記第2パターンとを含む画像データを入力する画像入力手段と、前記画像データから前記第1パターンと前記第2パターンとのいずれか一方を分離し、基準パターン画像データとして登録する基準パターン画像登録手段と、前記基板上を順次撮像して得られた画像データから、前記基準パターン画像データと一致するパターンを画像サーチする画像サーチ手段と、を備えていることを特徴とする寸法測定装置。
IPC (3件):
G01B 11/00 ,  G06F 17/30 ,  G06T 7/00
FI (5件):
G01B 11/00 H ,  G06F 15/40 370 B ,  G06F 15/403 350 A ,  G06F 15/62 405 A ,  G06F 15/70 455 A
引用特許:
審査官引用 (1件)

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