特許
J-GLOBAL ID：200903050399329097

微細パターン並びにその製造方法、及び微細パターンを用いた、発光素子、光学デバイス、電子デバイス

発明者：
下村 政嗣

下村 政嗣 について

, 
藪 浩

藪 浩 について

, 
田口 敏樹

田口 敏樹 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 田中 政浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342483
公開番号（公開出願番号）：特開2003-151766
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：
【要約】【課題】 種々のデバイスに使用可能な微細パターン、その製造方法、及びその製造装置を提供する。【解決手段】 2つの物体を接するように互いに密着させ、その間隙に溶液を満たし、物体を移動させながら気液界面を生じさせ、該溶液から溶媒を蒸発させることにより製造される微細パターン。
請求項（抜粋）：
2つの物体を接するように互いに密着させ、その間隙に溶液を満たし、物体を移動させながら気液界面を生じさせ、該溶液から溶媒を蒸発させることにより製造される微細パターン。
IPC (4件)：
H05B 33/10 ,  B01J 19/00 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (5件)：
H05B 33/10 ,  B01J 19/00 K ,  H05B 33/14 B ,  H05B 33/22 B ,  H05B 33/22 D
Fターム (9件)：
3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BB02 ,  4G075BD13 ,  4G075CA32 ,  4G075DA02 ,  4G075EC21
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM