投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-263240
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122472
出願日： 1993年10月21日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】ウエハ用のチルト機構を有する投影露光装置において、そのウエハのレベリングを行う際に、そのチルト機構の内部機構等の観測不可能な部分で生じる誤差要因を排除し、システム構成上必然的に発生するずれ量の補正を行う。【構成】レチクル2をレチクルXYステージ25上に載置し、ウエハ5を保持するウエハ・テーブル4を支点9A,9Bを介してXステージ10、Yステージ11上に載置し、ウエハ・テーブル4上の移動鏡6及びウエハXY干渉計8を用いてウエハ・テーブル4の2次元座標を計測する。ウエハ・テーブル4の傾斜角を高さ検出センサー22A,22Bにより計測し、支点9A,9Bを駆動した場合のウエハ・テーブル4の移動量、及びウエハ・テーブル4の傾斜角に基づいて、誤差補正を行う。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記マスク上のパターンの像を感光性の基板上に投影する投影光学系と、前記基板の露光面の傾斜角を計測する基板用傾斜角検出手段とを有し、前記マスクのパターンの像を前記基板上に露光する際に、前記基板用傾斜角検出手段により計測された傾斜角に基づいて前記基板の露光面の傾斜角を制御する投影露光装置において、前記基板を保持する基板保持テーブルと、該基板保持テーブルの傾斜角を調整する基板保持テーブル用チルト手段と、前記投影光学系の光軸にほぼ垂直な第1の平面上で前記基板保持テーブル用チルト手段及び前記基板保持テーブルを位置決めする基板位置決めステージと、前記基板保持テーブルの前記第1の平面に対する傾斜角を検出する基板保持テーブル用傾斜角検出手段と、前記基板保持テーブルの前記第1の平面上での2次元的な位置を計測する基板側位置計測手段と、前記マスクを前記投影光学系の光軸にほぼ垂直な第2の平面上で移動させるマスク側ステージと、前記マスク側ステージの前記第2の平面上での2次元的な位置を計測するマスク側位置計測手段と、前記基板用傾斜角検出手段、前記基板保持テーブル用傾斜角検出手段、前記基板側位置計測手段及び前記マスク側位置計測手段の検出結果に基づいて、前記基板保持テーブル用チルト手段、前記基板位置決めステージ及び前記マスク側ステージの動作を制御する制御手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 526 A , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 515 G , H01L 21/30 516 A

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-153519
特開平4-179115
特開平3-246923

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