特許
J-GLOBAL ID：200903050446914882
窒素ガスの製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-287482
公開番号（公開出願番号）：特開2004-083382
出願日： 2002年08月26日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】PSA方式の場合、装置が大型となり電磁弁等の装置のメンテナンスに難点があり、膜分離方式の場合、窒素純度は95〜99.9%程度となるため高純度のニーズには適せず、深冷分離方式の場合、99.999%以上の高純度の窒素が得られるが大規模な設備が必要であった。【解決手段】圧縮空気を供給するメイン配管204に接続し圧縮空気より酸素ガスを分離して窒素ガスを残存させる膜式窒素ガス分離装置50と、膜式窒素ガス分離装置50の下流に鉄粉を酸化させることによって窒素ガスから酸素ガスを更に除去する複数の直列にした酸素吸収装置70、100を配設した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
圧縮空気を供給するメイン配管(204)に接続し圧縮空気より酸素ガスを分離して窒素ガスを残存させる膜式窒素ガス分離装置(50)と、前記膜式窒素ガス分離装置(50)の下流に鉄粉を酸化させることによって窒素ガスから酸素ガスを更に除去する複数の直列にした酸素吸収装置(70、100)を配設したことを特徴とする窒素ガスの製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B21/04 V
, B01D53/14 B
4D020AA02
, 4D020BA02
, 4D020BA04
, 4D020BA07
, 4D020BA23
, 4D020BA30
, 4D020BB01
, 4D020CA05
, 4D020CC01
, 4D020CD02
, 4D020CD10
