被処理体処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：津川友士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-114451
公開番号（公開出願番号）：特開平9-299937
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：

【要約】【課題】被処理体の透明度の如何に拘らず、光触媒を確実に励起し、しかも光触媒による触媒作用面積を増加させる。【解決手段】光導波路5の表面に光触媒10を配してあるとともに、光導波路5の一端から光を導入するための光源6を設けてあり、前記光触媒10を処理対象となる被処理体と接触可能にする。

請求項（抜粋）：

光導波路(5)の表面に光触媒(10)を配してあるとともに、光導波路(5)の一端から光を導入するための光源(6)を設けてあり、前記光触媒(10)を処理対象となる被処理体と接触可能にしてあることを特徴とする被処理体処理装置。

IPC (3件)：

C02F 1/30 , B01J 35/02 , B01D 53/86

FI (3件)：

C02F 1/30 , B01J 35/02 J , B01D 53/36 J

引用特許：

審査官引用 (3件)

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