特許

J-GLOBAL ID：200903050505835142

荷電ビーム描画装置及び描画方法

発明者： 中杉 哲郎 ,  渡邊 由美
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-223386
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064799
出願日： 1996年08月26日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】 高速・高精度なマーク位置検出が可能となり、描画スループット及び描画精度の向上をはかる。【解決手段】 複数の電子ビーム光学系を持つマルチビーム方式の電子ビーム描画装置において、各々の荷電ビーム光学系の反射粒子検出器6にそれぞれコリメータ11を設け、複数の電子ビーム光学系で同時にマーク位置検出を行う。

請求項（抜粋）：

複数の荷電ビーム光学系を持つマルチビーム方式の荷電ビーム描画装置において、各々の荷電ビーム光学系の反射粒子検出器にコリメータを設けたことを特徴とする荷電ビーム描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/04 ,  H01J 37/305

FI (6件)：

H01L 21/30 541 W ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 A ,  H01J 37/04 A ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 K

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電子ビーム走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-295907   出願人：富士通株式会社