特許

J-GLOBAL ID：200903050527346277

めっき浴の調整方法

発明者： 大和 茂 ,  松浪 卓史 ,  岩本 由香
出願人/特許権者： 奥野製薬工業株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-103860
公開番号（公開出願番号）：特開2003-293197
出願日： 2002年04月05日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】 めっき性能に対して悪影響を及ぼすことなく、簡単な方法によって、めっき浴中の有機化合物を分解することが可能なめっき浴調整方法を提供すること。【解決手段】 次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、過塩素酸、次亜臭素酸、亜臭素酸、臭素酸、過臭素酸、次亜ヨウ素酸、亜ヨウ素酸、ヨウ素酸、過ヨウ素酸、及びこれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸化ハロゲン化物を添加することによって、めっき浴中の有機化合物を分解する方法。

請求項（抜粋）：

酸化ハロゲン化物をめっき浴に添加して、該めっき浴中に含まれる有機化合物を酸化分解することを特徴とする、めっき浴の調整方法。

IPC (3件)：

C25D 21/18 ,  C02F 1/76 ,  C23C 18/16

FI (3件)：

C25D 21/18 F ,  C02F 1/76 Z ,  C23C 18/16 Z

Fターム (12件)：

4D050AA08 ,  4D050AB18 ,  4D050BB03 ,  4D050BB06 ,  4D050BB07 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022DA01 ,  4K022DB01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 無電解錫又は錫-鉛合金めっき液廃液の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-141138   出願人：上村工業株式会社
• 電解液の浄化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-284618   出願人：株式会社ジャパンエナジー