特許
J-GLOBAL ID:200903050529219868
ウエハ-及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川瀬 茂樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-162927
公開番号(公開出願番号):特開平8-053765
出願日: 1995年06月05日
公開日(公表日): 1996年02月27日
要約:
【要約】【目的】 表面弾性波素子、半導体デバイス、耐磨デイスクなどに利用するための、基体の上にダイヤモンドを被覆した平坦なダイヤモンドウエハ-を作製すること。【構成】 基体の上に、気相合成法により(111)配向したダイヤモンド膜を形成する。形成後の反りが2μm〜150μmになるようする。これを研磨して、Rmax500Å以下、Ra200Å以下の平滑な面とする。
請求項(抜粋):
基板と、気相合成法により基板上にコ-テイングされた(111)配向したダイヤモンド膜とよりなり、ダイヤモンド膜は気相合成法により形成された後、研磨によりRmax500Å、Ra200Å以下の面粗度に仕上げてあることを特徴とするウエハ-。
IPC (6件):
C23C 16/26
, C30B 25/02
, C30B 29/04
, H01L 21/205
, H01L 21/304 321
, H01L 21/314
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