特許
J-GLOBAL ID：200903050579202877
架橋又は硬化したレジスト樹脂を有する減少した金属腐食を生じるアルカリ含有フォトレジストストリッピング組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々井 克郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-299063
公開番号（公開出願番号）：特開平6-202345
出願日： 1993年11月05日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、マイクロ回路基体の金属腐食を回避するフォトレジストストリッピング組成物の提供である。【構成】 非窒素含有弱酸をフォトレジスト用アミン含有アルカリ性ストリッパ-に添加すると、いかなる実質的な金属腐食も生じない、硬化又は高度に架橋したフィルムをストリッピング可能なストリッパ-組成物を生じる。ストリッピング組成物に有用な弱酸には水溶液中のpKが2.0以上、当量が約140未満のものが含まれ、アミンの約19〜75%を中和する量で使用される。
請求項（抜粋）：
いかなる実質的な金属腐食も生じることなしに金属含有基質から硬化又は高度に架橋したフォトレジスト樹脂フィルムをストリッピング可能であり、ストリッピング溶媒、親核アミン、及び該親核アミンを部分的に中和するに十分な量の非窒素含有弱酸を含んでいるアルカリ含有フォトレジストストリッピング組成物。
IPC (2件)：
引用特許：
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