特許
J-GLOBAL ID:200903050609813531
チタニア被膜
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
杉村 興作
, 高見 和明
, 徳永 博
, 岩佐 義幸
, 藤谷 史朗
, 来間 清志
, 冨田 和幸
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-506030
公開番号(公開出願番号):特表2006-521470
出願日: 2004年03月25日
公開日(公表日): 2006年09月21日
要約:
有機チタン化合物及び酸素含有有機化合物を用いるCVD処理により堆積した光触媒性チタニア被膜は、改善された特性を呈する。これらの被膜は、既存の被膜と比べて、より平滑で且つ耐久性があり、引っ掻き傷が生じにくい。好適な有機チタン化合物は、チタンイソプロポキシドであり、好適な酸素含有有機化合物は、酢酸エチルである。
請求項(抜粋):
酸化チタンを含む光触媒活性被膜を基板表面上に堆積するための化学蒸着処理において、
チタンテトラエトキシド又はチタンテトライソプロポキシドと、カルボン酸エステルとを含む蒸気を、酸化チタン被膜を形成させるのに充分高い温度の前記基板表面に接触させる工程を有する
ことを特徴とする化学蒸着処理。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (35件):
4G169AA03
, 4G169AA09
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA14A
, 4G169BA14B
, 4G169BA21C
, 4G169BA48A
, 4G169BE06C
, 4G169BE08C
, 4G169BE09C
, 4G169EA08
, 4G169EA11
, 4G169EB15X
, 4G169EB15Y
, 4G169ED04
, 4G169ED10
, 4G169FA03
, 4G169FB03
, 4G169FC04
, 4G169FC07
, 4G169HA07
, 4G169HA08
, 4G169HA09
, 4G169HA10
, 4G169HB01
, 4G169HC15
, 4G169HD14
, 4G169HE06
, 4G169HF10
, 4K030AA11
, 4K030AA12
, 4K030JA10
, 4K030KA23
, 4K030LA01
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
基板上の光触媒被膜の製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2001-501572
出願人:ピルキントンパブリックリミテッドカンパニー, ピルキントンノースアメリカインコーポレイテッド
前のページに戻る