特許

J-GLOBAL ID：200903050619447371

基板処理装置および基板処理方法

発明者： 佐野 謙一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 振角 正一 ,  梁瀬 右司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-332285
公開番号（公開出願番号）：特開2009-158564
出願日： 2007年12月25日
公開日（公表日）： 2009年07月16日
要約：

【課題】上下方向に小型で、しかも基板表面を良好に処理することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】隔壁部材142が円環状空間140と退避空間141の間を移動自在となっており、乾燥処理中には、隔壁部材142が円環状空間140に移動して基板Wとスプラッシュガード(カップ)136を仕切っているため、スプラッシュガード136から飛散したミスト状の処理液(薬液やリンス液)は隔壁部材142で遮られて基板Wへの処理液の再付着が防止される。その結果、基板乾燥を良好に行うことができる。また、雰囲気遮断板が不要となるため、従来装置と比べて雰囲気遮断板および該雰囲気遮断板を回転駆動する機構が不要となり、上下方向における装置サイズを小型化することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板に処理液を供給して前記処理液により前記基板を湿式処理した後に前記基板を乾燥する基板処理装置であって、 前記基板を保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段を回転させる回転駆動手段と、 前記基板保持手段に保持された前記基板に前記処理液を供給する処理液供給手段と、 前記基板保持手段に保持された前記基板の周囲を取り囲むカップと、 前記基板保持手段に保持された前記基板の上方位置に配置されて前記基板に向けて清浄気体を供給する清浄雰囲気供給手段と、 前記基板保持手段に保持された前記基板と前記カップの間に形成される環状空間と、前記環状空間から離れた退避空間の間を移動自在に設けられ、前記環状空間に位置することで前記基板と前記カップを仕切る隔壁手段と、 前記隔壁手段を、前記湿式処理時には前記退避空間に移動させる一方、前記乾燥処理時には前記環状空間に移動させる隔壁駆動手段と を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L21/304 651B ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 651L ,  H01L21/30 572B ,  H01L21/306 R

Fターム (25件)：

5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE33 ,  5F043EE37 ,  5F046MA05 ,  5F046MA10 ,  5F157AA17 ,  5F157AA71 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB44 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC26 ,  5F157CB01 ,  5F157CB13 ,  5F157CB14 ,  5F157CE07 ,  5F157CF22 ,  5F157DB51 ,  5F157DC51 ,  5F157DC90

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-083134   出願人：大日本スクリーン製造株式会社