特許
J-GLOBAL ID：200903084061211815

基板処理装置

発明者：
宮 勝彦

宮 勝彦 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-083134
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273360
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：
【要約】【課題】 スループットが高く、不活性ガスの消費量増加を抑制できるとともに、良好な処理仕上がり状態が得られる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板Wはスピンベース10上に立設されたチャックピン14によって水平姿勢にて保持されている。スピンベース10の上方には雰囲気遮断板30が設けられている。雰囲気遮断板30の下面側には基板Wの径よりも小さい表面領域を有する円柱形状の凸部31が形成されている。雰囲気遮断板30を基板Wに近接させて基板Wを回転させつつ、その上下両面から処理液や窒素ガス等を供給して洗浄や乾燥等の処理を行う。凸部31はチャックピン14に接触することなく基板Wに近接できるため、雰囲気遮断板30と基板Wとの間隔を狭くすることができ、窒素ガスを効率良く供給して消費量増加を抑制するとともに、乾燥時間を短縮し、跳ね返った汚染物質等が基板Wに付着するのを防止することができる。
請求項（抜粋）：
回転基台上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、前記回転基台上に設けられ、基板の周縁部を把持して当該基板を略水平姿勢にて保持する把持手段と、前記把持手段によって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる回転手段と、前記把持手段よりも上方に配置され、前記把持手段によって保持された基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、前記把持手段によって保持された基板に前記回転基台および前記雰囲気遮断板を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、を備え、前記把持手段によって保持された基板の表面領域よりも小さい表面領域を有する凸部を前記雰囲気遮断板の下面側に形成することを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
B08B 5/00 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/306
FI (6件)：
B08B 5/00 Z ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 J
Fターム (29件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB08 ,  3B116AB33 ,  3B116BB24 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD22 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB08 ,  3B201AB33 ,  3B201BB24 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB99 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22 ,  5F043BB27 ,  5F043EE03 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE09 ,  5F043EE24 ,  5F043EE33 ,  5F043GG10 ,  5F046MA10 ,  5F046MA18
引用特許：
審査官引用 (5件)
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