特許

J-GLOBAL ID：200903050665712268

基板処理装置

発明者： 芳谷 光明 ,  田中 巌
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-089762
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283406
出願日： 1996年04月11日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】 基板の主面の部分乾燥を抑えた上で、搬送中の基板の下位側端縁に形成される液溜りを確実に取り除くことできるようにする。【解決手段】 搬送方向と直交する面内で水平方向に対して傾斜した搬送ローラ5の基板載置面上を搬送される基板Bの主面に、上部液吐出手段6aおよび下部液吐出手段6bから供給される薬液Lによって基板B処理を行う薬液処理部2において、上記上記各液吐出手段6a,6bの下流側であって、かつ、上記基板載置面の表側および裏側の内の少なくとも一方側に、軸心が基板載置面を横断した状態で下面部が搬送中の基板Bの下位側に対向する液取りローラ7が設けられている。

請求項（抜粋）：

搬送方向と直交する面内で水平方向に対して傾斜した基板載置面上を搬送される基板の主面に、処理液供給手段から供給される処理液によって処理を施す基板処理装置において、上記処理液供給手段の下流側であって、かつ、上記基板載置面の表側および裏側の内の少なくとも一方側に、搬送中の基板の下位側端縁との間に微小の隙間が形成されるように配設された液除去部材を設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/30 569 D ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/306 J

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-095820   出願人：カシオ計算機株式会社
• 特公平7-009152
  
• 平版印刷版乾燥装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-048801   出願人：富士写真フイルム株式会社