光透過膜及び光透過膜形成用スパッタリングタ-ゲット

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小越勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-287606
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119062
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】スパッタリング時のパーティクルの発生を減少させ、スパッタリングの中断または中止の回数を減らして生産効率を上げ、かつ透過率が大きく、低反射率の光ディスク用保護膜を得る。【解決手段】 Nb2O5、V2O5、B2O3、SiO2、P2O5からなるガラス形成酸化物を0.01〜20重量%、Al2O3、Ga2O3を0.01〜20重量%、さらに必要に応じて、硬質材料酸化物であるZrO2、TiO2を0.01〜5重量%含有し、残部In2O3、SnO2、ZnOから選択された1種以上の酸化物である光透過膜及び同膜を形成するためのスパッタリングターゲット。

請求項（抜粋）：

Nb2O5、V2O5、B2O3、SiO2、P2O5から選択された1種以上のガラス形成酸化物を0.01〜20重量%と、Al2O3又はGa2O3を0.01〜20重量%含有し、残部In2O3、SnO2、ZnOから選択された1種以上の酸化物であることを特徴とする光透過膜。

IPC (2件)：

C04B 35/453 , C23C 14/34

FI (2件)：

C04B 35/00 P , C23C 14/34 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-104937
特開平4-228466
特開昭61-136954

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