薄膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：臼村文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-259436
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090584
出願日： 1993年09月22日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：

【要約】【構成】液晶ディスプレイの前面パネル等の大型の角型の透明基板41が蒸着室11内を移送されつつ、蒸発源13によりその表面に反射防止膜等の薄膜が形成される。透過型膜厚監視装置25により、薄膜堆積ゾーンの中間点で膜厚を検知して基準値と比較してフィードバック制御し、最終膜厚補正板19の開閉を調整することにより薄膜堆積ゾーンの長さを変更して、基板41に形成される薄膜の膜厚を均一化する。【効果】均一な厚さの薄膜を、大型パネル等に連続して形成することができ、生産の効率化が可能となる。

請求項（抜粋）：

薄膜堆積ゾーン内で基板を該ゾーンの出発点から終点に向けて移送しつつ、蒸発源から薄膜形成物質を基板上に飛翔せしめて、基板上に薄膜を堆積させ、該出発点と終点との間の中間測定点で基板上に堆積した薄膜の膜厚を検知して測定し、この測定値に基づいて、薄膜堆積ゾーンの終点までに形成される基板上の薄膜の最終膜厚を制御することを特徴とする薄膜形成方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

真空成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-254635 出願人：凸版印刷株式会社

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