特許

J-GLOBAL ID：200903050746312922

NiFe合金軟磁性積層膜およびその製造方法

発明者： 浅井 弘紀 ,  小俣 雄二 ,  篠崎 俊幸
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-207630
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066069
出願日： 1993年08月23日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 高周波領域のおいても初透磁率の高い軟磁性積層膜を提供する。【構成】 パルス電流を用いて作製した高い初透磁率を有する軟磁性層1と透磁率の低い中間層2を交互に積層する。このNiFe合金(パーマロイ)軟磁性積層膜は直流法による積層膜に比べ全周波数領域で高い初透磁率を示し、またパルス電着法によるパーマロイ単層膜と比較しても高周波領域において高い初透磁率を示した。このことから、高記録密度領域で使用される薄膜磁気ヘッドのコア材として本発明による積層膜は適用可能である。

請求項（抜粋）：

電気メッキ法により作製されたNiFe合金軟磁性積層膜であって、Fe2+イオン濃度とNi2+イオン濃度の比がそれぞれ1:40から1:50の範囲のメッキ浴をもちい、軟磁性層成膜時に通電、非通電が周期的にくりかえされるパルス電流をメッキ電流とし成膜した軟磁性層と透磁率の小さい中間層とを交互に積層したNiFe合金軟磁性積層膜。

IPC (4件)：

H01F 41/26 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/31 ,  H01F 10/14

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 軟磁性薄膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-265884   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開昭55-082793
  
• 特開昭55-082793