基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：下出隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-151541
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335601
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】洗浄槽22の純水から基板Wを引き上げる際に、基板Wにウォータマークやパーティクルを生じない基板処理装置10を提供する。【構成】基板処理装置10では、リフタ機構30の基板支持部31により基板Wを支持した状態で洗浄槽22の純水に浸漬または取り出すように基板Wを搬送する。リフタ機構30は、基板Wを洗浄槽22から引き上げる際に、基板Wを基板支持部31からチャック機構40のチャック41a,41bへ受け渡す動作を行なう。すなわち、基板Wを洗浄槽22の純水で処理した後に、基板支持部31が基板Wを支持して純水から一定速度で引き上げ、基板Wの全体が純水から引き上げられた後に、チャック41a,41bが基板Wを把持して、その後、基板支持部31が基板Wの把持を解放する。

請求項（抜粋）：

基板を処理液で処理した後に乾燥する基板処理装置において、上記基板の表面に付着した処理液を乾燥させる乾燥雰囲気に設定する乾燥室と、該乾燥室内に配置され、基板を処理する処理液を貯留する洗浄槽と、上記基板を支持して洗浄槽内の処理液に、該基板を浸漬するように昇降させる第1搬送部と、第1搬送部との間で基板を受け渡す第2搬送部とを有する搬送手段と、上記第1搬送部で基板を支持して、処理液から基板の全体を取り出す位置まで一定速度で引き上げ、該基板を引き上げた後に、第2搬送部で基板を支持すると共に、第1搬送部による基板の支持を解除するように搬送手段を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , H01L 21/304 361 , B08B 3/08 , F26B 21/00

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平2-156531
特開平2-156531
特開昭63-184350

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