特許
J-GLOBAL ID:200903050757979325
ヒ素・リン・シリカの高感度吸光検出法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
重信 和男
, 水野 昭宣
, 清水 英雄
, 高木 祐一
, 中野 佳直
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-205800
公開番号(公開出願番号):特開2007-024634
出願日: 2005年07月14日
公開日(公表日): 2007年02月01日
要約:
【課題】ガリウムヒ素半導体製造工程などにおける、水中などの低濃度ヒ素、環境保全ならびに工業分野における微量のリン、そして電力を含む工業用水などにおける微量のシリカを、迅速で、低コストで、且つ、高感度に測定する技術並びに常時モニタリングに適した技術の開発。【解決手段】ヒ素・リン・シリカの高感度吸光検出が、イソポリ酸存在下のトリアリールメタン系色素とハロゲン間化合物の錯体をヘテロポリ酸のプローブとすることで達成できる。本発明の検出法は、ICP-MS(誘導結合プラズマイオン源質量分析装置)法、水素化物発生原子吸光法など数千万円クラスの大型装置に匹敵する高感度性を見込めるといった性能であり、加えて簡便性・迅速性・ランニングコストの観点からも非常に有利で、半導体工業等の製造現場モニタリングならびに環境分析への応用が可能である。【選択図】図2
請求項(抜粋):
微量のヒ素、リン、あるいはシリカ含有試料を、イソポリ酸の存在下でトリアリールメタン系色素とハロゲン間化合物との錯体をヘテロポリ酸の検出プローブとして分析し、水中ヒ素、リン、あるいはシリカの検出及び/又は測定を行うことを特徴とするヒ素・リン・シリカの高感度吸光検出及び/又は測定法。
IPC (3件):
G01N 31/00
, G01N 21/78
, G01N 31/22
FI (5件):
G01N31/00 T
, G01N31/00 A
, G01N31/00 N
, G01N21/78 Z
, G01N31/22 122
Fターム (23件):
2G042AA01
, 2G042BA09
, 2G042BB17
, 2G042BC14
, 2G042CA02
, 2G042DA06
, 2G042DA08
, 2G042FA01
, 2G042FA04
, 2G042FA06
, 2G042FA11
, 2G042FA19
, 2G042FA20
, 2G042FB02
, 2G042GA05
, 2G042HA07
, 2G054CA10
, 2G054CE01
, 2G054EA04
, 2G054EB01
, 2G054GA03
, 2G054GB01
, 2G054JA06
引用特許:
出願人引用 (3件)
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ヒ素測定法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-416575
出願人:株式会社東北テクノアーチ
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水中微量成分の測定方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-220334
出願人:株式会社東北テクノアーチ, 東亜ディーケーケー株式会社
-
オルトリン酸イオンの定量方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-046828
出願人:株式会社トクヤマ
審査官引用 (1件)
引用文献:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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