特許

J-GLOBAL ID：200903050848809627

基板処理装置

発明者： 木瀬 一夫 ,  近藤 和義
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-130584
公開番号（公開出願番号）：特開平8-323302
出願日： 1995年05月29日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【目的】 カップに付着する物質を洗浄除去することができる基板処理装置を提供する。【構成】 アーム5の他方端部5bに、洗浄用ノズル9が回転軸10まわりに回転自在に支持されるとともに、この洗浄用ノズル9を回転駆動する駆動機構11が設けられる。洗浄用ノズル9はカップ6の内周面の半径よりも若干短く、アーム5と同様に、水平面内に伸びている。そして、回転・昇降機構8によりアーム5の他方端部5bがカップ6の中心CPに位置決めされると、洗浄用ノズル9の後端部9aがカップ6の中心CPとほぼ一致するとともに、その先端部9bがカップ6の内周面6aと近接し、洗浄可能な状態となる。この洗浄可能状態で、洗浄用ノズル9を回転軸10まわりに回転しながら洗浄液を洗浄用ノズル9の先端部9bからカップ6の内周面6aに向けて吐出して、カップ6の内周面全体が洗浄される。

請求項（抜粋）：

水平保持された基板を回転させて、その基板の表面に供給された処理液の全部あるいは一部を振り切るとともに、基板を取り囲むように配置されたカップで前記基板表面から振り切られる処理液を受ける基板処理装置において、前記カップを洗浄するための洗浄液を吐出する先端部を有し、前記先端部と反対側の後端部を回転中心として回転自在な洗浄用ノズルと、前記カップ内で前記洗浄用ノズルを回転駆動する駆動手段と、前記カップ内の第1カップ洗浄位置と前記カップの外側の退避位置との間で、前記洗浄用ノズルを移動させる移動手段とを備え、前記洗浄用ノズルと前記駆動手段が前記第1カップ洗浄位置に位置するとき、前記後端部が前記カップの中心とほぼ一致するとともに、前記先端部が前記カップの内面と近接し、この洗浄可能状態で前記洗浄用ノズルが回転しながらその先端部から洗浄液が前記カップに向けて吐出されることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

B08B 3/02 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (6件)：

B08B 3/02 B ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 564 D ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-087517   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社