特許
J-GLOBAL ID：200903050859078578
試料分析方法及び試料分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-211354
公開番号（公開出願番号）：特開2009-047450
出願日： 2007年08月14日
公開日（公表日）： 2009年03月05日
要約：
【課題】 損傷及び/又は汚染が発生するまでの間に測定された特性X線強度の値に基づいて試料分析を行うことにより、適切な試料分析を実行することのできる試料分析方法及び試料分析装置を提供する。【解決手段】 試料8に電子線9を照射し、電子線9の照射に応じて試料8から発生する特性X線10の強度を、時間経過とともに時分割にて測定して試料8の分析を行う試料分析において、測定開始時に測定された特性X線強度の初期値と、その後の各測定タイミングで測定された特性X線強度の値(経時値)との比較を行い、時間経過に応じて順次測定された経時値が、初期値に対して所定割合の増減幅内に設定された許容値範囲から外れたときに測定を中止し、初期値及び許容値範囲内となっている各経時値に基づいて試料分析を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料に電子線を照射し、電子線の照射に応じて試料から発生する特性X線の強度を、時間経過とともに時分割にて測定して試料の分析を行う試料分析方法であって、測定開始時に測定された特性X線強度の初期値と、その後の各測定タイミングで測定された特性X線強度の値(経時値)との比較を行い、時間経過に応じて順次測定された経時値が、初期値に対して所定割合の増減幅内に設定された許容値範囲から外れたときに測定を中止し、初期値及び許容値範囲内となっている各経時値に基づいて試料分析を行うことを特徴とする試料分析方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
2G001AA03
, 2G001BA05
, 2G001CA01
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001GA11
, 2G001KA01
