特許
J-GLOBAL ID：200903050916653770
DNAチップの製造方法およびDNAチップ
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
清水 初志
, 橋本 一憲
, 川本 和弥
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-052801
公開番号（公開出願番号）：特開2004-264084
出願日： 2003年02月28日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】本発明は、高い集積度で、鎖長に制限のないDNAプローブが固定化されたDNAチップを、簡単な工程で安価に提供することを目的としている。【解決手段】本発明に係るDNAチップの製造方法は、放射線の作用に由来して反応性官能基を現出させうる化合物を含有する感放射線組成物を基板上に塗布し、感放射線組成物膜を形成する工程(工程1)、該感放射線組成物膜表面に、所定のパターンマスクを介して放射線を照射し、複数の領域に反応性官能基を現出させる工程(工程2)、および該反応性官能基にDNAプローブを固定化する工程(工程3)からなることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
放射線の作用に由来して反応性官能基を現出させうる化合物を含有する感放射線組成物を基板上に塗布し、感放射線組成物膜を形成する工程(工程1)、
該感放射線組成物膜表面に、所定のパターンマスクを介して放射線を照射し、複数の領域に反応性官能基を現出させる工程(工程2)、および
該反応性官能基にDNAプローブを固定化する工程(工程3)
からなることを特徴とするDNAチップの製造方法。
IPC (4件)：
G01N33/53
, C12M1/00
, C12N15/09
, G01N37/00
G01N33/53 M
, C12M1/00 A
, G01N37/00 102
, C12N15/00 F
4B024AA11
, 4B024AA19
, 4B024CA09
, 4B024HA14
, 4B029AA07
, 4B029AA23
, 4B029BB20
, 4B029CC03
, 4B029CC11
, 4B029FA15
