特許
J-GLOBAL ID：200903050989254009

光フェルール研磨装置

発明者：
石川 隆朗

石川 隆朗 について

, 
藤原 邦彦

藤原 邦彦 について


出願人/特許権者：
株式会社フジクラ

株式会社フジクラ について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-055953
公開番号（公開出願番号）：特開2002-254282
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月10日
要約：
【要約】【課題】 MPO形光コネクタプラグ等の光コネクタを組み立てた後でも、光フェルールの接合端面の研磨が可能な技術の開発が求められていた。【解決手段】 光コネクタ14を固定することで、この光コネクタ14先端に組み込まれている光フェルール15の接合端面15bが、研磨機構部3に往復動自在に設けられている研磨ブロック9の研磨面16の可動領域Rに位置決めされ、前記研磨ブロック9の往復動によって往復動する研磨面16が前記接合端面15bに摺接されてこの接合端面15bが研磨されるようになっている光フェルール研磨装置1を提供する。
請求項（抜粋）：
光フェルール(15)をハウジング(24)に組み込んで組み立てられた光コネクタ(14)を固定するコネクタ固定部(2)と、前記光フェルールの接合端面(15b)を研磨する研磨面(16)を有する研磨ブロック(9)が所定の移動直線上を往復動自在として設けられた研磨機構部(3)とを有し、前記研磨ブロックの前記研磨面は前記移動直線に平行に延在する側面として該研磨ブロックに形成されており、前記コネクタ固定部に固定された光コネクタの前記光フェルールの接合端面が、前記研磨ブロックの往復動による前記研磨面の可動領域(R)内に位置決めされるようになっていることを特徴とする光フェルール研磨装置(1)。
Fターム (7件)：
3C049AA02 ,  3C049AA11 ,  3C049AA14 ,  3C049AA16 ,  3C049AB04 ,  3C049CA01 ,  3C049CB04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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