特許
J-GLOBAL ID：200903051009324096
超微細構造体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-254150
公開番号（公開出願番号）：特開平10-102243
出願日： 1996年09月26日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：
【要約】【課題】 各種材料からなる超微粒子の形成位置等の制御を可能にすることによって、超微粒子を利用した超微細配線、超微細デバイス、超微細機能材料等を実現可能にする。【解決手段】 基板1上に所望形状に連続配置された、金属超微粒子、半導体超微粒子、化合物超微粒子等の各種材質からなる超微粒子6、さらには材質が異なる複数種の超微粒子からなる超微細構造体7である。超微細構造体7を構成する複数の超微粒子6は、基板1上に所望形状のスリット3を有するターゲット材2を配置し、このターゲット材2のスリット内壁4に対して高エネルギービーム5を斜め照射して、ターゲット材2の構成原子または構成分子を離脱させることにより形成したものであり、これら複数の超微粒子6を連続配置することで超微細構造体7が作製される。
請求項（抜粋）：
基板上に所望形状に連続配置された複数の超微粒子からなる超微細構造体であって、前記複数の超微粒子は、前記基板上に配置された前記超微粒子の配置形状に応じたスリットを有するターゲット材に、高エネルギービームを斜め照射して離脱させた前記ターゲット材の構成原子または構成分子からなることを特徴とする超微細構造体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/32 A
, H01L 21/203 S
