薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-037867
公開番号（公開出願番号）：特開2000-020924
出願日： 1999年02月16日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】定常検出電流による発熱を効率良く逃がすことができ、MR素子層の温度上昇による熱拡散、焼損、出力低下、交換異方性磁界の劣化を抑制し、線形応答性に優れ、バルクハウゼンノイズを抑制した薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法の提供。【解決手段】下部シールド層53上に下部ギャップ層54を介して形成された磁気抵抗効果素子層45と、磁気抵抗効果素子層45に検出電流を与える電極層48と、電極層48の上に上部ギャップ層56を介して形成された上部シールド層57を少なくとも備えてなり、下部ギャップ層54と上部ギャップ層56の少なくとも一方が、Al-N-X系の組成の絶縁層を有し、上記元素XはSi,B,Cr,Ti,Ta,Nbのうちから選択される1種または2種以上からなるものである薄膜磁気ヘッド。

請求項（抜粋）：

下部シールド層上に下部ギャップ層を介して形成された磁気抵抗効果素子層と、該磁気抵抗効果素子層に検出電流を与える電極層と、該電極層の上に上部ギャップ層を介して形成された上部シールド層を少なくとも備えてなり、前記下部ギャップ層と上部ギャップ層の少なくとも一方が、Al-N-X系の組成の絶縁層を有し、前記元素XはSi,B,Cr,Ti,Ta,Nbのうちから選択される1種または2種以上からなるものであることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

引用特許：

審査官引用 (3件)

薄膜磁気ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-067036 出願人：日本碍子株式会社
特開平2-134740
窒化ケイ素膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-175673 出願人：旭硝子株式会社

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